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天然未加工的光刻胶就是另外一码事儿,分辨率低,需要较长曝光时间,限制了光刻机技术发展。
自用的光刻胶,使用的材料是光敏聚合物。
分辨率高。
曝光时间短。
同样的光刻机,使用两种光刻胶制造出来的芯片,不能说一个天上一个地下,但也是两种产物。
质量不可同日而语。
“唉,光敏聚合物制作的光刻胶,其实性能也不太好,缺点也不少,只是目前没有更好的。”
万兴邦对光敏聚合物也不太满意。
光敏聚合物也有缺点。
光敏聚合物对万兴邦而言,就是一种过渡产品,迫不得已的情况下矮子里选大个,先顶上!等他找到更好的材料,制造出更好的光刻胶,就淘汰光敏聚合物。
光明聚合物的缺点也很多。
缺点一是对能量比较敏感。
。
在光刻机工作过程中,必须严格控制光源的能量,也就是光长度,以保证光刻胶的感光度。
对紫外光和深紫外光尤其敏感。
缺点二是对化学溶剂耐受性较弱。
在光刻机加工的过程中,有些生产步骤需要使用化学溶剂,清除未暴露部分残留的光刻胶。
这一步非常关键。
该清除的部分,要是清理不干净,再继续光刻的时候,就容易造成漏刻,就会导致芯片报废。
不该清除的部分,是被清除了,或者膨胀了,就会导致不该雕刻的部分雕刻了,或者变形。
同样会报废芯片。
因此。
使用光敏聚合物制作的光刻胶,对化学溶剂要求也非常高,各种物质的配比必须严格按照要求。
只要有一点不对,一批芯片就报废了。
缺点三是机械性能差,包括机械强度和耐磨性。
有一些芯片加工的时候,中间的加工环节,有可能会施加一定程度的物理压力,或简单打磨。
这种类型的芯片,就不适合使用聚合物光刻胶。
缺点四是稳定性差。
强光照射、温度骤变、气密性不好,都有可能导致聚合物光刻胶变质,储存环境要求比较高。
有些时候。
聚合物光刻胶轻微变质,从物理性状上根本看不出来,颜色不变,味道不变,会被误认为是好的。
但是。
进了光刻机,实际加工的时候,就会出现问题,容易导致一批芯片报废,甚至影响光刻机。
这才是最糟糕的。
这些缺陷,都是聚合物本身的缺陷,根本无法改变。
只能先用着。
继续研发更好的光刻胶。
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第二代光刻机,目前只是初级产品,还有待进一步升级,新型光刻胶就是重点升级目标之一。
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