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第413章 万兴刚想出改进的办法（第4页）

这些都是内因。

还有外因。

近场光刻技术对操作者的要求很高，因为需要12高精度调整和控制。

这就要求对操作者进行严格培训。

培训的成本，最终也会加到芯片的成本上。

而且一旦出意外，操作员出了问题，想临时调其他操作员过来根本不可能，因为要求太高了。

对此。

万兴刚想出改进的办法。

使用接触式近场光刻技术弥补短板。

直到万兴邦穿越之前，繁华年代的光刻机，使用的就是接触式近场光刻技术。

是他知道的。

最先进的光刻技术。

刚下线的第二代光刻机，无论透镜技术，还是光刻技术，都超越了时代，达到繁华年代的标准。

接触式近场光刻技术，就是近场光刻技术的改良型。

借助接触探针，或者探针阵列，与光刻胶直接接触，把复杂的图案转移到光刻胶上。

零距离接触，排除其他干扰，能实现更高的分辨率，更快的转移速度，以及更高的可靠性。

稳定性。

尤其是用于高精度和通量高的应用。

远远超过第一代光科技的分辨率限制，在分辨率方面实现了质的飞跃。

在纳米制造、生物学和光学等领域，都有着非常广泛的应用前景，也是多个领域发展的前提。

要是没有高精度芯片，很多领域是发展不起来的。

“接触式近场光刻技术，相比传统的近场光刻技术，最少能提升百分之三十到四十的加工速度。”

“节约时间成本，同时能提高精度，提高成品率。”

“第二代光刻机技术，就算一直用到本世纪末，也不会落后，其他国家也根本没机会赶上来。”

万兴邦有这个自信。

因为他拿出来的技术，一方面来自记忆，一方面来自系统，两者融合，超越这个时代。

“只要给我一点时间，有了第二代光刻机，无论是奔腾D处理器，还是酷与双核处理器，我都能弄出来。”

万兴邦回忆起前世的科技。

他可不是盲目自信。

这两种处理器，原来的历史轨迹中，都是两千年之后才出现的，一个是零五年，一个是零六年。

这两种处理器的出现，都依赖于光刻机。

刚下线的第二代光刻机，达到了能生产两种处理器的水准，某些方面，甚至远远超过这个水准。

比如光刻胶。

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