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这些都是内因。
还有外因。
近场光刻技术对操作者的要求很高,因为需要12高精度调整和控制。
这就要求对操作者进行严格培训。
培训的成本,最终也会加到芯片的成本上。
而且一旦出意外,操作员出了问题,想临时调其他操作员过来根本不可能,因为要求太高了。
对此。
万兴刚想出改进的办法。
使用接触式近场光刻技术弥补短板。
直到万兴邦穿越之前,繁华年代的光刻机,使用的就是接触式近场光刻技术。
是他知道的。
最先进的光刻技术。
刚下线的第二代光刻机,无论透镜技术,还是光刻技术,都超越了时代,达到繁华年代的标准。
接触式近场光刻技术,就是近场光刻技术的改良型。
借助接触探针,或者探针阵列,与光刻胶直接接触,把复杂的图案转移到光刻胶上。
零距离接触,排除其他干扰,能实现更高的分辨率,更快的转移速度,以及更高的可靠性。
稳定性。
尤其是用于高精度和通量高的应用。
远远超过第一代光科技的分辨率限制,在分辨率方面实现了质的飞跃。
在纳米制造、生物学和光学等领域,都有着非常广泛的应用前景,也是多个领域发展的前提。
要是没有高精度芯片,很多领域是发展不起来的。
“接触式近场光刻技术,相比传统的近场光刻技术,最少能提升百分之三十到四十的加工速度。”
“节约时间成本,同时能提高精度,提高成品率。”
“第二代光刻机技术,就算一直用到本世纪末,也不会落后,其他国家也根本没机会赶上来。”
万兴邦有这个自信。
因为他拿出来的技术,一方面来自记忆,一方面来自系统,两者融合,超越这个时代。
“只要给我一点时间,有了第二代光刻机,无论是奔腾D处理器,还是酷与双核处理器,我都能弄出来。”
万兴邦回忆起前世的科技。
他可不是盲目自信。
这两种处理器,原来的历史轨迹中,都是两千年之后才出现的,一个是零五年,一个是零六年。
这两种处理器的出现,都依赖于光刻机。
刚下线的第二代光刻机,达到了能生产两种处理器的水准,某些方面,甚至远远超过这个水准。
比如光刻胶。
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