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第245章 用多重曝光技术突破16nm制程（第2页）

在他心中，如此低的良品率意味着生产成本会大幅增加，而这无疑是一个亟待解决的严重问题。

因此，他对当前百分之三十的良品率实在难以感到高兴。

林鹏闻言却是微微一笑，安慰道：“其实吧，我觉得百分之三十的良品率已经相当不错了！这才刚刚开始投入初期生产，以后有的是时间去逐步提升良品率。”

在他看来，以现阶段的技术，考虑到这又是首次采用32nm的光刻机进行多重曝光生产，能够取得百分之三十的良品率已然算是一个颇为良好的开端了。

毕竟多重曝光技术相较于传统的一次曝光而言，在良品率方面本就存在一定差距。

而且林鹏也心知肚明，即便是最成熟的多重曝光技术，其良品率的上限通常也就是百分之八十左右罢了，几乎不可能像一次曝光那样轻松实现百分之九十以上的超高良品率。

所以在林鹏看来，此时能有百分之三十的成绩，着实不应有过高的苛求。

“如今使用32nm的光刻机，并借助多重曝光技术所制造出来的这款产品，其制程能达到多少nm？”

林鹏目光炯炯地盯着范宏毅，提出了这个至关重要的疑问。

提起制程问题，范宏毅脸上阴云尽散，他嘴角微扬，流露出一抹得意的笑容：“目前咱们所生产的这颗处理器，它的设计工艺是16nm制程！”

他的声音中透露出难以掩饰的自豪之情。

虽然，台岛的集体电路公司在去年就开始大规模应用了22nm的制程工艺。

但是，当制程推进至22nm时，整个行业仿佛遇到了一道难以逾越的瓶颈，在短时间内，想要让光刻机取得全新的突破性进展简直难如登天。

不过，正所谓山穷水复疑无路，柳暗花明又一村。

炎黄公司凭借着多重曝光技术这一强大助力，利用稍微落后的光刻机，成功地实现了对台岛集体电路公司的短暂超越。

炎黄公司团队率先把制程突破到了16nm制程。

尽管从某种程度上来说，这样的成果或许带有一些取巧的成分，但在范宏毅的眼中，无论采取何种方式和手段，只要能够在竞争激烈的市场中脱颖而出、拔得头筹，那便是真真切切的实力展现。

林鹏闻言，眼中闪过一丝惊喜之色：

“16nm制程吗？”

“这可是个了不起的成就！虽然多重曝光技术的良品率还有待提升，但这无疑给了我们极大的信心。”

虽然早也有心理准备，但是范宏毅亲口确认已经破破到了16nm制程，这还是让林鹏兴奋不已。

范宏毅微微点头：“没错，这也证明了我们的方向是正确的。”

“接下来只要持续优化多重曝光技术，提升良品率，我们就能在半导体领域占据更有利的地位。”

说道这里，范宏毅看向林鹏的目光充满了钦佩之色。

在他看来，炎黄公司能够突破16nm制程，其中功劳最大的还是林鹏，因为是林鹏率先提出了多重曝光技术，并给予了很多理论支持。