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第118章 制作光刻机（第2页）

别看只有4纳米之差，但性能却是天差地别！

要知道，一块芯片，如果晶圆体体积越小，就证明可以容纳下更多的核心。

而更多的核心，就代表着更强悍的性能。

14纳米的处理，其性能也只不过才等于十代的i3级处理器。

而现在的最新一代处理器，已经升级到十四代的i9了！

！

其性能之差可是有十几倍！

很快，陈风带着一众人员进入光刻机实验室。

因为光刻机在制造芯片的时候，必须保持整个实验室没有灰尘。

因此陈风等人经过了全面的消毒。

而光刻机中的光刻胶对普通的光也很敏感，只有在黄光的照射下不会收到影响。

整个光刻机实验室内都是一片黄光。

此时此刻，还有一些院士在这里工作。

他们看到陈风过来后，都是自觉地让开位置，并且给陈风打招呼。

“陈先生。”

陈风看着他们，问道。

“现在光刻机还是只能制造14纳米的芯片吗？”

几位院士脸上都是犯了难，开口说道。

“陈先生，您有所不知，咱们现在自研的光刻机，最主要的难题有这么几个。”

“首先是芯片线路图，这是我们与顶级芯片最大的差距。”

“因为线路图精细与否，直接决定着芯片能容纳晶体管的数量。”

“越紧密的线路图，就可以容纳更多数量的晶体管，性能自然更强。”

“目前世界最强芯片的线路图，其线路精细程度就等于头发丝的万分之一。”

“陈先生，头发丝的万分之一粗细……您应该也知道这意味着什么……”

“目前国内，并没有能达到这种级别的设计师存在，这种级别的设计师，早就被英特尔他们挖走了。”

陈风点了点头，这个难题他其实早就知道了。

只不过现在陈风并没有多说什么，只是示意这位院士继续往下说。

“想要制造出更精密的线路，其最重要的地方就在于光刻。”

“现在世界顶级的光刻机，普遍采用的都是极紫外光……”